高纯材料
High purity materials
单晶
Single crystals
二维材料
2D Materials
加工定制
Custom manufacturing
常用耗材
Consumables
仪器设备
Instruments&equipments
仪器设备
电子束蒸发源 > 电子束蒸发源
电子束蒸发源
仪器
电子束蒸发源，是使用高能电子束轰击靶材，使材料受热蒸发，从而产成原子/分子束流，蒸镀到衬底上的一种镀源。由于使用高能电子束轰击，受热集中，因而可以蒸镀各种难熔材料。根据具体的需求，可以选择使用直径2-6mm的柱状材料，也可以选用不同材料的坩埚。集成的束流控制，允许最精确的生长监控。
|
真空中长度 |
200mm（典型值，可根据需要调整） |
|
真空中直径 |
34mm（max） |
|
安装法兰 |
DN40CF（2.75”OD） |
|
烘烤温度 |
200℃（max） |
|
蒸发温度 |
200-2300℃（与电源功率相关，使用坩埚时最高温度会比使用棒材低一些） |
|
蒸发棒直径 |
2-6mm |
|
靶材移动距离 |
25mm |
|
最大功率 |
150W（2000V，75mA，可选用功率更高的电源） |
|
灯丝电流 |
典型值1.8-2.2A，最大2.7A |
|
工作气压 |
超高真空（典型值2x10-10mbar） |
|
标准配件 |
手动挡板，束流监控，热电偶（用于监控水冷罩温度），线性位移器（调整靶材与灯丝直接距离，使用坩埚时可以不用） |
|
选配部件 |
W，Mo，坩埚，去离子部件 |
