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二维材料 —— 半导体 > 二硫化钼(MoS2)

二硫化钼(MoS2)

半导体

MoS2是一种半导体,其间接带隙为1.2 eV。单层MoS2的带隙为1.8 eV,层间通过范德华力相互作用堆叠在一起,可以机械剥离成二维单层,合成的MoS2为有金属光泽的六角形或矩形。 

合成MoS2通常表现为N型,通过掺杂的方式可以获得P型,室温下载流子浓度~1015cm-3二硫化钼可用作光电检测器和晶体管。

名称

二硫化钼 (MoS2)

规格尺寸

横向尺寸:1-1.5CM

熔点(℃)

1185(N/P)2375(天然)

纯度(%)

99.995(N/P),>99.9(天然)

材料性质

半导体材料

晶体特征

Eg1.2ev

晶体结构

六方晶系

晶格常数

a=b=0.315nmc=1.229nmα=β=90°γ=120°

生长方法

分子束外延,化学气相沉积,天然

备注


*我们的单晶在生长后会经过XRD,EDX,Raman等手段进行表征,如有需要,可以跟我们销售人员索取库存产品的检测报告。

嘿,我来帮您!
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