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公司推出高精度硅基掩模板及其对准系统

  

高精度掩模板及其对准系统
Ultra High Resolution Shadow Mask and Alignment System

 目前较为复杂的电子器件通常都是用光刻工艺制作的,但是光刻工艺设备昂贵,步骤繁多,光刻模板制作也非常复杂。通常是在规模生产时采用。传统掩模板蒸镀技术步骤少,成本低,设计灵活,是科研单位和中小公司普遍采用的另一个方法。但目前常用的金属掩模板有一个主要的缺点,就是最小的精度通常只有50微米左右,无法达到许多科研单位和科技企 业的设计要求。

 我们开发的高精度掩模板,是一项革命性的创造,最小精度可以达到1微米甚至亚微米。可以代替大部分光刻掩模板, 填补了高端光刻工艺和低端金属掩模板的巨大空白。其优点为

 1、高精度,高重复使用率,高成品率,以及样品的高洁净度完全满足高校和科研单位的要求。
 2、灵活的定制不同形状和尺寸的掩模,适用于多种理工学科和跨学科的研究。
 3、压缩制作工序,减少重复劳动。
 4、相比光刻工艺,此技术完全不会污染半导体或者基底材料,能够生产质量要求极高的产品。