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半导体仪器

高精度硅基掩膜板对准系统

Cas号:0     货号:PM14901

价格和库存

规格 价格 库存情况 购买数量
1pc 4370.00 90 -      +
研发(200mm直径) 4,670.00 1 -      +
研发(4inch直径) 5,750.00 9 -      +

货号:FD56103

黑磷 (BP) Large size sin...

货号:FD56104

氮化硼 hBN 1-1.5mm latera...

货号:FD56114

二硫化铪 HfS2,6-8mm lateral,...

货号:FD56115

二硒化铪 HfSe2,6-8mm lateral...

                                                                   对准系统

对准系统概述

对准系统的主要功能就是将工件台上的样品与掩模板上图形进行对准并接触固定,其对准
精度约为1um,完全能够达到掩模板自身精度要求。
对准系统组成:样品台、掩模板固定支架、掩模板支架竖直移动旋钮、样品台水平移动
旋钮、样品台旋转控制器和底座。

对准系统常规尺寸:底座直径100mm,样品台直径32mm,高度30mm,重量240g。

对准系统使用说明和注意事项

样品表面和掩模板表面要保持清洁,防止灰尘沾染,推荐在无尘室使用。
高精度蒸镀时(<10微米)推荐使用热蒸发或者电子束蒸发,蒸镀时还需较高的真空
(1x10 Torr以下),并且尽量使靶材金属在掩模板正下方。
1、将样品固定在样品台上,并通过调整样品台旋转控制器将其转到合适的角度。
2、调节掩模板竖直移动旋钮,将掩模板正面朝下,通过铜夹定在掩模板固定支架上。
3、粗调样品台水平移动旋钮,使样品大致位于掩模板图形下方,方便寻找样品。
4、将整套装置置于长焦显微镜下,并对焦于掩模板图形处。
5、透过图形中较大的孔对焦于衬底上,寻找样品。
6、将需要蒸镀的样品置于视野中央。
7、缓慢降下掩模板,使其接近衬底表面。
8、调节样品台水平移动旋钮使样品与掩模板图形对齐。
9、进一步下降掩模板,使其与样品接触。(在显微镜中能同时看清样品与掩模板图形,
即认为接触)
10、小心地将整套装置放于蒸镀设备中蒸镀,尽量避免震动。
11、为保证对准系统使用精度,每次蒸镀结束都应及时对其进行清洁。
-5
*注1:对准系统的底座尺寸可以根据科研使用者的具体需求进行定制。
*注2:为确保对准系统位移精度和延长对准系统使用寿命,蒸镀过程中尽量将旋钮部分保护起来。

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